Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра. Учебное пособие
Об издании
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника».
Библиографическая запись
Сагателян Г.Р. Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра : учебное пособие / Сагателян Г.Р., Макушина Н.В.. — Москва : Московский государственный технический университет имени Н.Э. Баумана, 2006. — 50 c. — ISBN 5-7038-2926-7. — Текст : электронный // Цифровой образовательный ресурс IPR SMART : [сайт]. — URL: https://www.iprbookshop.ru/31257.html (дата обращения: 08.11.2024). — Режим доступа: для авторизир. пользователей
РЕКОМЕНДУЕМ К ПРОЧТЕНИЮ
Абрашкина Е.Д., Агирбов Ю.И., Андреев О.П., Ариничев В.Н., Ашмарина Т.И., Бритик Э.В., Горбачев М.И., Грачев А.Б., Дрямов С.Ю., Евграфова Л.В., Егоров А.А., Ивакина Е.Г., Кабдин Н.Е., Каратаева О.Г.,...
(Ай Пи Ар Медиа)
Апатцев В.И., Иванкова Л.Н., Иванков А.Н.
(Ай Пи Ар Медиа)
Апатцев В.И., Иванкова Л.Н., Иванков А.Н.
(Ай Пи Ар Медиа)
Гришина Т.Г., Толкачева И.М.
(Профобразование, Ай Пи Ар Медиа)
Гришина Т.Г., Толкачева И.М.
(Профобразование, Ай Пи Ар Медиа)
Морозов Ю.М., Мовчан К.Н., Оболенская Т.И., Халилов М.А., Татаркин В.В.
(Ай Пи Ар Медиа)
C ЭТОЙ КНИГОЙ ТАКЖЕ ЧИТАЮТ
Русанова С.Н., Темникова Н.Е., Софьина С.Ю., Стоянов О.В.
(Издательство КНИТУ)
Рыжкин А.А.
(Донской государственный технический университет)
Гнюсова И.Ф.
(Издательский Дом Томского государственного университета)